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纳米砂磨过程中分子电荷作用及空间位阻

 

 

在纳米砂磨机分散过程中,以电荷相斥和/或空间位阻来保持合适的物料间的距离,这样减少了不受控制的絮凝的倾向。

1.电荷相斥
物料颗粒在液态涂料中其表面带有电荷。通过助剂和物理纳米研磨的使用,有可能使电荷增强,并使所有的颜料颗粒带有相同的电荷,相反电荷的离子聚集在颜料表面附近(在液相),从而形成“双电层。稳定化程度随着双电层的厚度的提高而增强。电荷相斥稳定机理对水性的乳液分散体及相关体系特别有用。从化学上来说,用于这种分散体系的助剂是聚电解质—在侧链多处含有电荷的较高分子量的产品。
由于它们的化学结构,这类砂磨机研磨过程中助剂很难显示任何的润湿作用;因此在实际应用上需要和润湿助剂一起使用。
2.空间位阻
以空间位阻起作用的分散助剂有二个特殊的结构特征。第一,这些产品含有一个或多个称之为“物料亲和”的基团—锚定基团或粘附基团—所有这些都对颜料表面具有牢固的、持久的吸附力。第二,这些产品含有与树脂相混容的链段(碳氢结构),当助剂吸附在颜料表面后,这些链段会尽可能从物料表面伸向周围的树脂溶液。这层有伸出链段的,吸附着的助剂分子构成了空间屏蔽或“熵稳定化作用。上述的稳定作用还由于助剂的聚合物链段与树脂聚合物间相互作用而进一步加强,也就是说,因这相互作用使颜料颗粒外围有了更厚的“壳”。这种稳定化机理发生于含有溶剂化树脂的溶剂型体系和水可稀电荷相斥,通过空间位阻作用的物料稳定。

 
 

 

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